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中國晶圓廠積極擴張成熟製程 估2027年市占達33%

2023/10/18 16:12

中國晶圓代工廠積極擴成熟製程,估2027年占比達33%(記者洪友芳攝)

〔記者洪友芳/新竹報導〕研調機構集邦科技(TrendForce)統計指出,中國致力推動在地化生產、IC國產化等政策與補貼,擴產最積極,預估中國成熟製程(28奈米及以上)產能到2027年占比,將從今年的29%成長至33%,台灣成熟製程占比則會從49%收斂至42%。

TrendForce並指出,2023~2027年全球晶圓代工成熟製程及先進製程(16奈米及以下)產能比重約維持在7成與3成之比。中國擴產成熟製程以中芯國際(SMIC)、華虹集團(HuaHong Group)、合肥晶合集成(Nexchip)擴產最為積極。中國透過積極招攬海外及境內IC設計業者投產或研發新品,目的為提高本土化生產的比例,但大幅擴產的結果,可能造成全球成熟製程產能過剩,且隨之而來的將會是價格戰。

TrendForce認為,中國成熟製程產能陸續開出,針對驅動IC(Driver IC)、影像感測器(CIS/ISP)、功率元件(Power discrete)等本土化生產趨勢將日漸明確,具備相似製程平台及產能的二、三線晶圓代工業者,可能面臨客戶流失風險與價格壓力,如聯電、力積電與世界先進等以特殊製程產品為大宗的台系業者將首當其衝,技術進展和良率將是後續鞏固產能的決勝點。

就產品別而言,TrendForce表示,驅動IC主要採用高壓製程,各家業者目前聚焦40/28奈米製程開發,技術較領先的業者是聯電,其次是格羅方德,中芯國際的28奈米、合肥晶合的40奈米製程,將先後於今年第4季、明年下半年進入量產階段,這對力積電、僅8吋廠的世界先進、南韓東部高科短期內將首當其衝;對聯電、格羅方德中長期也將造成影響。

影像感測器(CIS)/ISP)方面,TrendForce表示,3D CIS結構包含邏輯層ISP與CIS感光層,主流製程大致以45/40奈米為分水嶺,邏輯層ISP製程將持續往更先進節點發展;CIS感光層與FSI/BSI CIS則以65/55奈米及以上為主流。目前技術領先業者以台積電、聯電、三星為主,但中國業者中芯國際、合肥晶合集成緊追其後,除持續追趕製程差距,產能也受惠中國智慧型手機品牌OPPO、Vivo、小米(Xiaomi)等出海口支撐,加上中國CIS業者OmniVision、Galaxycore與SmartSens因應政府政策,陸續將訂單移回中國進行投產支撐。

Power Discrete(功率元件)方面,TrendForce分析,主要涵蓋MOSFET與IGBT兩種產品,世界先進、HHGrace深耕Power Discrete製程已久,製程平台及車規驗證覆蓋完整性皆較其他同業更高。受惠於中國電動車補貼政策以及鋪設太陽能相關基礎建設,中國晶圓代工業者據此獲得更多切入機會,包含主流代工廠HHGrace、中芯國際、合肥晶合集成、CanSemi在內的業者,加上中國本土小型的Power Discrete IDM、晶圓廠如GTA及CRMicro等均加入Power Discrete競爭行列。中國產能同時大量開出,將加劇全球Power Discrete代工競爭壓力,影響性不僅限於中國本土同業的價格戰,也可能分食台系業者的訂單及客戶。

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