〔編譯魏國金／台北報導〕中國海關數據顯示，今年10月中國進口的半導體製造設備總額43億美元，較去年同期的24億美元激增近80%。半導體製造設備是美國科技出口管制新規的主要目標，此進口需求的增加反映中國半導體公司竭盡所能，趕在新規生效前囤積工具。
南華早報報導，美國工業安全局10月將用於生產45奈米與更成熟製程晶片的曝光機設備，以及一些用於蝕刻與薄膜沈積的先進工具列入對中國的出口管制清單中，此舉旨在加強實施1年的管制措施，以阻礙中國的人工智慧晶片與其他先進積體電路的發展，此新規在公佈1個月後生效。
報導說，這項新規範也進一步限制荷蘭艾司摩爾（ASML）可以出口中國的晶片曝光設備範圍。
中國是艾司摩爾第三大市場，該公司壟斷全球最先進的極紫外光機（EUV）市場，在美國制裁壓力下，艾司摩爾自2019年起，沒有供應中國相關設備，但允許銷售低階深紫外光機（DUV）給中國客戶，以生產所謂傳統晶片，該晶片廣泛用於汽車、家電等消費性產品。
中國海關數據也顯示，中國的晶片進口在今年前兩月創下年減26.5%的紀錄後，已逐漸好轉。今年前11月積體電路進口總額4376億美元，較去年同期減少12.1%，反觀今年前10月減幅為13.1%。同時，今年前11個月晶片進口總額3166億美元，年減16.5%，較前10個月的年減18.8%好轉。
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