〔財經頻道／綜合報導〕荷蘭日前宣布將進一步限制對中國半導體技術出口，《彭博》援引知情人士報導，荷蘭將計畫阻止光刻機巨頭艾斯摩爾（ASML）向中國出售另外3種型號的深紫外光 （DUV） 光刻機台。
隨著科技日益發展，浸潤式光刻設備的應用相當廣泛，可用於提升軍事硬體、人工智慧（AI）及電動汽車等領域。美國不斷試圖破壞中國半導體技術的增長，荷蘭在拜登政府的施壓下宣布，擴大對半導體設備的限制。
知情人士披露，荷蘭本週宣布的出口限制將阻止「TWINSCAN NXT:2000i」、「NXT:2050i」及「NXT:2100i」的出口，上述3種型號都屬於浸潤式 DUV 設備。
ASML週三表示，雖然未取得政府公開聲明以外，最新出口限制的相關資訊，但該公司認為，最新的禁令可能包含TWINSCAN NXT:2000i 以及後續推出的浸潤式 DUV 設備。目前ASML已被禁止向中國出售極紫外光刻技術等相關尖端技術及設備。
荷蘭政府發言人拒絕對彭博報導置評。
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