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中油高煉廠整治第三區地下水，今解除列管。（資料照）
〔記者葛祐豪／高雄報導〕迎接台積電設廠，高市府今天宣布中油高煉廠整治作業第三區，地下水正式解除列管，未來將力拚左楠地區半導體製造聚落。
高雄市工務局長楊欽富指出，高廠整治污染場址面積約169.5公頃，採分期分區整治。目前第一階段整治，其中土壤部分，已於今年3月28日經環保局公告解除列管；地下水部分，經環保局審查及進行最終驗證後，今天也正式宣布解除列管，後續土地將交付經發局及台積電，進行園區開發作業。
工務局新工處進一步表示，整治工作期間，各家廠商均緊鑼密鼓開挖及整治，進度穩定超前，主管機關環保局除不定期派員抽查空氣品質外，也在高煉廠外圍周邊，設有3座監測站、9處微型感測器、1座光化測站及1部空品監測車，進行監測，相關監測數據均公開在環保局網站。
高市府強調，中油高煉廠污染整治工程第三區，將供台積電設置第1期晶圓廠，預計113年開始量產，可增加1500人就業機會。如今整治作業的土壤及地下水均已正式解列，未來台積電進駐後，期望結合南科、路科及橋科，串聯南部半導體材料S廊帶。
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