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國教院跟風中國? EUV曝光機變「光刻機」

2022/06/29 05:30

半導體業名詞 台灣、中國差很大

〔記者洪友芳、林曉雲/綜合報導〕半導體業成為台灣製造業鎮國之寶,中國砸重金企圖超車,不僅大肆補助各項技術研發,也自創各專業名詞喊得震天價響,但實際績效乏善可陳,連半導體最昂貴的黃光製程微影(Photolithography)設備極紫外光(EUV)曝光機,也是有錢卻買不到;諷刺的是,我國教育部轄下國家教育研究院網站專業術語卻不叫台灣慣稱的「曝光」機,反跟著中國稱「光刻」機,令業界感到不可思議。

我國教育部轄下國家教育研究院網站專業術語不叫台灣慣稱的「曝光」機,反跟著中國稱「光刻」機,令業界感到不可思議。(路透)

國教院︰我譯名早於中國 將再討論

對此,國家教育研究院副院長顏慶祥說明,Photolithography學術名詞的中文翻譯,在資訊與通信術語辭典及電子計算機名詞等領域,約自二○○一年以前即翻譯為「光刻」,沿用至今;而依國教院調查確認,中國使用光刻此一名詞是在我國(二○○一年)定稿後才出現。後續國教院將針對此一學術名詞的中文翻譯,提交資通辭典委員會進一步討論。

盧志遠驚︰國家級研究網站應該改正

不過,旺宏電子總經理盧志遠仍大喊「驚奇」,認為國家級研究網站不應隨著媒體或社會大眾被同化,應該要改正;他表示,台灣翻譯半導體專業術語很注重語意,中國採直翻,「很多名詞都怪怪的」。

前科技部部長陳良基也說,半導體業對專有名詞通常習慣講英文,但中文稱呼,台灣與中國就有差異;微影設備曝光機是屬重要的黃光製程,台灣因台積電在先進製程領先全球,黃光製程微影設備採更先進的極紫外光(EUV)曝光機,一台超過一億歐元(約三十多億台幣),EUV曝光機比起其他半導體設備更受矚目,他認為,台灣不應該跟著中國叫「光刻」機,應導正視聽。

「中國為了達到半導體供應鏈能自給自足,從設備到材料,什麼都土法煉鋼,政府也什麼都撒錢補助」。工研院產業科技國際策略發展所研究總監楊瑞臨指出,最貴的微影設備曝光機研發難度高,荷商艾司摩爾(ASML)在全球市占率超過八成,中國無技術能力,在成熟製程的深紫外光(DUV)還可向日商或ASML購買,但在生產先進製程的極紫外光(EUV)曝光機僅ASML一家供應,中國受制國際協定遭禁售,有錢也買不到設備,也就無法往十奈米或更先進製程推進。

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