〔財經頻道／綜合報導〕美國晶片產業似乎正在經歷一場「巨大的」變革，而一家名為Substrate的新創公司也決定進軍曝光機領域，該領域目前由荷蘭艾斯摩爾（ASML）佔據主導地位。
在晶片曝光設備領域，美國完全依賴ASML等公司，因為美國缺乏能夠與這家荷蘭晶片製造商匹敵的本土技術。然而，彭博的一份最新報告顯示，名為「Substrate」的新創公司計劃打破美國晶片製造商對ASML的依賴。該公司計劃研發能夠與ASML的EUV曝光機相媲美的設備，但與使用傳統極紫外光不同，Substrate計劃利用粒子加速器產生的短波長X射線。
Substrate計劃為美國提供一種替代EUV曝光技術的國內方案，該方案採用X射線而非EUV（極紫外光），該公司已籌集了1億美元資金，投資者包括彼得·蒂爾的Founders Fund，僅憑其先進設備工具的概念，估值就達到了10億美元。
Substrate公司聲稱，其獨特的技術能夠降低使用ASML EUV設備的成本。該公司已向媒體展示了這項技術，專家們稱讚其是一項令人矚目的創新。
Substrate計畫利用波長比13.5奈米EUV更短的X射線，以達到更穩定的多重曝光。這家新創公司聲稱，透過採用穩健的光罩/光阻流程，他們已成功大幅降低了晶片曝光成本。
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