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ASML生產的曝光機已成為美中技術競爭的核心關鍵角色。（路透）
〔財經頻道／綜合報導〕紐約時報報導，中美競爭成敗的核心關鍵就在每台造價數億美元的機具，隨著美國試圖減緩中國在軍事技術的進展，應用在電腦晶片製造複雜電路的微影曝光機已成為中國一個關鍵技術發展的瓶頸。
曝光機外表為光滑的白色盒子，大約有大型貨車大小，已是美中技術衝突的核心。這些機器是中國發展自主晶片製造業的核心，但中國尚不具備製造它們的技術，至少是最先進的技術。
本週，美國官員採取措施遏制中國實現這一目標的進展，禁止全球公司向中國出口更多類型的晶片製造機器，除非它們獲得美國政府的特別許可。
美國在2019年川普政府說服荷蘭阻止運送ASML最先進的極紫外線曝光設備（EUV）技術後，經過拜登政府持續外交壓力，荷蘭和日本政府也於今年1月同意，將獨立限制向中國銷售一些深紫外曝光機（DUV）和其他類型的先進晶片製造設備。
美國官員的立場是，如果美國境外製造的設備只包含一個美國製造的零件，他們就可以對其進行監管。
ASML的技術實現了全球運算能力的飛躍。其機器擁有數萬個組件，每台成本造價高達數億美元，其精度不斷提高，使得晶片上的電路變得越來越小，從而使公司能夠將更多的運算能力整合到一小塊矽片中。
儘管中國政府正向半導體行業投入大量資金，但中國的晶片製造設備仍落後於ASML和其他主要機器供應商的實力很多年，這些供應商包括美國的應用材料公司和科林研究公司，以及日本的東京電子和佳能公司。
不過，今年夏天，中芯公司使用ASML的深紫外曝光技術以及其他先進機器，突破美國官員希望阻止中國觸及的技術障礙，美國制裁效果受到了考驗。8月，華為出人意料地發布了一款新智慧型手機，其中包含中國製造的晶片，晶體管尺寸為7奈米，僅比台灣製造的最新晶片落後幾代。
深紫外線曝光機的技術主要由荷蘭公司ASML製造，該公司在市場上佔據主導地位。荷蘭智庫Clingendael Institute的中國研究員Vera Kranenburg表示，雖然ASML已明確表示將遵守這些規定，但該公司對先前禁止其向中國出口更先進的設備規定感到憤怒。
被捲入地緣政治之後，ASML執行長Peter Wennink表示，公司將無法向「少數」中國晶片工廠運送某些工具。但他補充說，「我們在2023年的銷售額仍然是2024年無法實現的」。
目前，ASML與中國的業務依然活躍。ASML在本週的財報中表示，第3季對中國的銷售額激增，佔該公司全球總銷售額的46%，遠高於歷史水準。TD Cowen分析師預計，今年ASML在中國的銷售額將達到55億歐元，是去年總額的兩倍多。他們預計，明年新的出口管制可能會使該公司在中國的收入減少10%至15%。
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