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為了從台積電手中奪回晶片製程領先地位，英特爾拒絕重蹈7年前的錯誤。（本報合成資料照）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕英特爾在美國加州聖荷西舉行的會議上表示，購買的前兩台高數值孔徑High-NA EUV 曝光機已投入生產，預估可生產3萬片晶圓產能。科技外媒指出，為了從台積電手中奪回製程領先地位，押寶High-NA，顯示英特爾拒絕重蹈7年前的錯誤。
英特爾表示，新機器的可靠性比原來的EUV機器高出一倍。根據英特爾高級首席工程師史蒂夫卡森（Steve Carson）介紹，公司使用校車大小的高數值孔徑光刻機生產3萬片晶圓（根據產量，每片晶圓可包含數千個晶片）。卡森表示：我們以穩定的速度生產出晶圓，這對平台來說是一個巨大的優勢。
phonearena報導指出，英特爾花了7年時間才意識到可以依靠EUV曝光技術讓台積電和三星超越自己。英特爾在製造10nm晶片時遇到了問題，部分原因是它依賴較舊的曝光設備。英特爾迅速採取行動購買高NA EUV機器的決定表明，它不想再犯同樣的錯誤。
高NA EUV曝光機將用於幫助生產採用英特爾18A製程節點的晶片。這將用於代號為Panther Lake的晶片，該晶片將專供筆記型電腦使用。
英特爾代工服務 （IFS） 尋求從台積電和三星代工廠手中重新奪回製程領導地位。英特爾的A18製程計劃於今年下半年開始量產，與台積電和三星代工廠的2nm製程類似，後兩者也將於2025下半年開始量產。
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