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中芯國際在使用美國設備下可在十四奈米節點生產晶片，今年恐無法實現十奈米製程。（歐新社檔案照）
管制2晶片製造關鍵技術 拜登勝選也不會撤銷
〔編譯楊芙宜／綜合報導〕香港《南華早報》報導，分析師指出，美國商務部上月甫將六項新興技術列為「對美國國家安全至關重要」的出口管制項目，恐重創中國半導體野心；華府更嚴格的出口管制新規涵蓋晶片製造兩項關鍵技術，即用於極紫外光（EUV）應用的運算式微影軟體、五奈米IC晶圓生產技術，這對中國在先進半導體製造領域欲追趕上西方的目標形成新阻礙，即使是拜登政府也不可能撤銷這些規定。
EUV應用軟體、5奈米製程
美國新管制的技術還包括電腦數控工具、數位取證工具、捕獲和分析通訊和後設資料的軟體、次軌道太空船，還擴大了「瓦聖納協議」對軍民兩用產品和技術的管制範圍，該協議締約國包括美國、荷蘭等四十二國，旨在管制常規武器和軍民兩用等敏感技術輸往中國等威權國家。
顧問機構「風險控制」分析師伍德表示，拜登的一些中國顧問提出了相對強硬主張，包括對半導體使用出口管制，未來可能尋求和盟友及夥伴協調行動，以限制出口管制和制裁對第三國的影響。研調機構Forrester分析師戴鯤指出，中國已被列入禁運國家的名單內，阻礙其進入全球生產體系；中國在電腦、航太、晶片研發和製造等許多領域的技術發展和民間生產，持續面臨嚴峻挑戰。
美國新管制的半導體技術「用於製造EUV光罩的運算式微影軟體」，為先進七奈米製程節點的關鍵技術；另一項為最先進的五奈米生產節點技術，全球只有台積電有能力實現生產。
今年無望實現10奈米製程
研究機構以賽亞報告指出，中國自主研發的微影軟體「只能支援八十或九十奈米」製程，中芯國際在使用美國設備下可在十四奈米節點生產晶片，今年恐無法實現十奈米製程；且中國短期可能無法跨越關鍵障礙，包括微影和蝕刻的核心技術分別由荷蘭艾司摩爾（ASML）、美國應用材料和科林研發掌控。
Dechert法律事務所合夥人達菲分析認為，任何涉及輸往中國、具國安或軍事用途的軍民兩用技術，都「非常不可能」取得美國出口許可證。
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