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台積電高層表示，未必需要在其A16製程技術中使用ASML的最新下一代High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）曝光機設備。（法新社）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕台積電一位高層表示，台積電未必需要在其A16製程技術中使用ASML的最新下一代High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）曝光機設備，該製程正在開發中，預計將於2027年推出。
台積電業務開發資深副總裁張曉強（Kevin Zhang）在阿姆斯特丹的會議上發表講話時表示，台積電的A16工廠的設計有可能適應該技術，但這還不確定。台積電是ASML常規EUV機器的最大使用者。
高數值孔徑曝光設備預計將有助於將晶片設計縮小多達三分之二，但晶片製造商必須權衡這一優勢與更高的成本，以及舊技術是否更可靠、足夠好。張曉強告訴記者：「我喜歡這項技術，但我不喜歡標價」。每個高NA EUV的成本預計將超過3.5億歐元，而ASML常規EUV機器的成本為2億歐元。
日前韓國媒體傳出，英特爾已包下ASML新型High-NA EUV微影設備直到2025年上半為止的多數供應量。TheElec 8日曾引述未具名消息人士報導，ASML今年準備製造5台High-NA EUV微影設備。由於這種設備每年只能生產約5~6台，代表第一批將全數出貨給英特爾。
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