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艾司摩爾（ASML）宣布最新型High-NA Twinscan EXE曝光機每台售價約為3.8億美元（台幣120億元）。（路透）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕艾司摩爾（ASML）宣布最新型High-NA Twinscan EXE曝光機每台售價約為3.8億美元（台幣120億元），相較之下，現有的Low-NA Twinscan NXE EUV系統成本約為1.83億美元（台幣58億元），不過，實際價格取決於特定的型號和相關配置。
ASML表示，迄今為止，已經從英特爾和SK海力士等公司獲得10到20個新一代晶片製造工具高數值孔徑極紫外線曝光機（EUV）訂單，並計劃到2028年，每年生產20台此項機具。
ASML先前透露，新一代EUV的成本將是現有低數值孔徑 EUV工具的兩倍以上，但沒有提供具體細節。ASML的High-NA Twinscan EXE曝光機代表該公司技術的巔峰。每台設備重150噸，運輸需要250個貨櫃；需要250名工程師花費6個月的時間來組裝一個工具。
即將推出的高數值孔徑EUV Twinscan EXE工具可望提供8奈米分辨率，顯著改進現有的單次曝光只能達到13奈米的低數值孔徑 EUV，這使得電晶體尺寸縮小了大約1.7倍，從而使電晶體密度增加了近3倍。
達到8奈米關鍵尺寸的能力，對於採用3奈米以下製程技術製造晶片至關重要，這也是晶片產業希望在2025年至2026年間實現的目標。
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