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想打贏晶片戰爭，它還需要採購更多一種不太明顯的資源：水。（取自網路）
〔財經頻道／綜合報導〕建構半導體工廠需要大量的土地和能源，然後需要地球上一些最精密的機器和設備來運行。但隨著美國尋求啟動更多晶圓廠，想打贏晶片戰爭，它還需要採購更多一種不太明顯的資源：水。
晶片工廠的複雜性是美國國會去年承諾投入超過500億美元來提高美國晶片產量的原因之一。以英特爾雄心勃勃的計劃為例，計劃在俄亥俄州哥倫布市郊外建造一座耗資200億美元的巨型基地。該地區已經擁有3座水廠，每天總共提供1.45億加侖的飲用水，但官員們正計劃斥巨資建設第4座水廠，至少部分是為了容納英特爾廠房所需。
水聽起來可能不像電子製造的傳統成分，但它在清潔被切片並加工成計算機晶片的矽片或晶圓方面發揮著重要作用。根據喬治敦安全與新興技術中心 （CSET） 的數據，一家晶圓廠一天可能會使用數百萬加侖的水，大約相當於一個小城市一年的用水量。
在乾旱的亞利桑那州幾個州之外，台積電計劃建造一座新的水回收設施，以支持其在鳳凰城正在建設的新工廠，同時，似乎還從以下地方採購一些水附近的河流和水利基礎設施。為了準備由晶片製造商美光在紐約州北部建造一座耗資 1億美元的晶圓廠，已經有巨大的儲水箱，每個儲水箱可容納約1500萬加侖的水。
不是任何水都可以。正如晶片工廠內的空氣必須無塵，人們必須穿著全包工作服一樣，半導體行業在整個製造過程中使用特殊類別的「超純水」來清潔矽晶圓。生產超純水是一個多步驟的過程，可以去除各種污染物，包括海洋和湖泊中可能發現的微生物和其他微生物，以及更小的顆粒，甚至包括鹽離子。使用的一種技術是反滲透，也用於海水淡化廠。
鑑於水在晶片製造中的關鍵作用，廢水的回收和再利用已成為該行業的首要任務。晶圓廠內可重複使用的水越多，對當地供水的需求就越少。
清理污水是一個複雜的過程，因為工廠廢水中含有多種污染物。光刻和蝕刻會產生酸性廢水，甚至會受到強力氫氟酸的污染。
晶片製造商正在投資改進過濾和清潔工藝，以使更多的水可重複利用。例如，英特爾的目標是到2030年全球實現淨正用水量，部分基於淡化和處理海水和雨水的計劃。與此同時，美光的目標是到本10年末通過再利用、回收和修復來節約75%的能源。
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