（示意圖，彭博）
〔記者廖家寧／台北報導〕美光17日宣布將在日本投資5000億日圓在現有的廣島工廠生產下一代記憶體晶片。對此，美光內部消息指出，美光在台灣導入1-gamma技術節點的計畫沒有改變。
美光內部對員工訊息指出，為開發1-gamma，美光已在台灣導入EUV機台，且相關製程開發也將依原有規劃在台灣完成。
美光表示，在1-gamma開發過程中，台灣及日本團隊將緊密合作，並依循過去合作開發1-beta製程的經驗，來加速1-gamma的開發進程，而台灣在極紫外光（EUV）相關的製程及設備開發上將持續領先，推動相關技術趨向成熟。
美光預計到了2025年在台灣及日本採用EUV生產1-gamma技術節點之產品。
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