粉絲團
中國買不到全球僅荷蘭設備廠商艾斯摩爾（ASML）生產的極紫外光（EUV）微影機，製造更先進晶片陷入困境。（彭博檔案照）
〔編譯盧永山／綜合報導〕根據香港《南華早報》報導，華為新款智慧手機Mate 60 Pro搭載自研的處理器晶片，並由中芯國際以七奈米製程生產，讓中國半導體業看到突破美國制裁的希望；但專家指出，由於中國買不到極紫外光（EUV）微影機，在製造更先進晶片方面困難重重。
報導說，加拿大產業研究公司TechInsights和日本拆機研究機構Fomalhaut Techno Solutions在拆解Mate 60 Pro後均認為，中芯是用現有的十四奈米深紫外光（DUV）機台不斷改良，甚至融入特殊技術，才製造出性能堪比七奈米的處理器晶片，這凸顯難以取得更先進的EUV，已成為中國推進半導體產業的主要障礙。
即使中國花了數年時間尋求半導體產業自力更生，但製造先進晶片所需的EUV，全球僅荷蘭設備廠商艾斯摩爾（ASML）供應；業內人士指出，在可預見的未來，中國不可能製造出這種複雜的機器。
美國自二○一九年以來就禁止向中國出口EUV，艾斯摩爾自二○二四年一月起，更將禁止向中國出口二○○○系列浸入式DUV，將進一步威脅中國晶圓代工廠擴張計畫。
中國多年來致力於開發自家的微影設備，並將希望寄託在國有企業上海微電子裝備集團（SMEE）身上，但該公司迄今最好的SSA600/20掃描器只能實現十奈米微影分辨率，遠遠落後艾斯摩爾和日本尼康等同業。
中製設備 只能用於學術研究
中國電子生產設備產業協會副秘書長李金祥坦承：「我們在微影設備方面還有很長路要走，中國沒有一條晶片生產線配備國產微影設備，國產的大多只用於學術研究。」
歐布萊特石橋集團中國區高級副總裁崔歐洛（Paul Triolo）表示，中國正在開發與EUV有關的關鍵技術，但至少還需要四至五年時間才能建立一個全國產、具有商業價值的系統。」
一手掌握經濟脈動 點我訂閱自由財經Youtube頻道
不用抽 不用搶 現在用APP看新聞 保證天天中獎 點我下載APP 按我看活動辦法
