粉絲團
經濟部科專成果主題館首度對外展出全球獨創的2奈米製程鍍膜機台，其中的複合式原子層鍍膜技術（Hy-ALD），最強優勢在於能讓鍍膜厚度又薄又均勻，不但能縮短製程時間，亦能提升良率。（工研院提供）
突破國外專利壟斷
〔記者廖家寧／台北報導〕台灣國際半導體展昨開展，經濟部科專成果主題館首度展出全球獨創的二奈米製程鍍膜機台，其中的複合式原子層鍍膜技術（Hy-ALD），最強優勢在於能讓鍍膜厚度又薄又均勻，不但能大幅縮短製程時間，亦能提升良率，也是第一台國產前端鍍膜設備，預計量產後可拉高國產自主程度到六十％，突破國外大廠對原子層鍍膜沉積設備專利的壟斷；業界也預期能打進台積電的供應鏈。
拉高國產自主程度到60％
技術處說明，鍍膜設備向來仰賴國外大廠，經濟部以科技專案補助工研院研發的複合式原子層鍍膜設備，不但斬獲二○二三R&D一○○大獎，也是國內第一台自製的前端鍍膜設備，預估國產自主程度能從三十％提升到六十％；另該設備將前段鍍膜製程步驟整合為多合一（all in one）系統，製程從七天壓縮到一天，還能減少製程運輸可能的污染、降低良率耗損。
技術處表示，規劃與半導體設備廠旭宇騰精密科技合作開發量產機台，預期能打入半導體製造龍頭廠的供應鏈，預計這款設備未來將佔據ALD鍍膜市場約十％、約八十四億元。
工研院機械所半導體設備技術組長黃萌祺說，過去半導體的鍍膜多是使用CVD（化學氣相沉積）或PVD（物理氣相沉積）鍍膜技術，鍍膜層較厚且在複雜結構上均勻度較低；當半導體製程節點從七奈米進展到二奈米，對鍍膜品質的要求也愈來愈高，工研院研發出原子層鍍膜設備，能做到一層一層由原子構成、慢慢去堆疊的鍍膜，能鍍到又薄又均勻。
一手掌握經濟脈動 點我訂閱自由財經Youtube頻道
不用抽 不用搶 現在用APP看新聞 保證天天中獎 點我下載APP 按我看活動辦法
