晴時多雲

英特爾搶先訂購2奈米EUV設備

2022/01/20 05:30

美國半導體巨頭英特爾(Intel)為推進尖端半導體微影技術發展,今日宣布與艾司摩爾(ASML)長遠合作的最新階段發展。(英特爾提供)

台積電也將跟進 先下單不代表會先量產

〔記者洪友芳/新竹報導〕全球半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)與英特爾昨共同宣布,英特爾已向ASML下訂業界首台EUVTWINSCAN EXE:5200 系統的訂單,這是1款具備High-NA的極紫外光(EUV)大量生產系統設備,每小時具備200片以上晶圓產能,英特爾預計2025年進入生產階段。

英特爾預計3年後量產

半導體設備業界指出,TWINSCAN EXE:5200系統主要應用在2奈米製程及以下技術,而全球晶圓代工龍頭廠台積電(2330)今年資本支出金額高達400-440億美元,其中有70-80%將用於建置2、3、5、7奈米等先進製程產能,由此可見,台積電今年應也將會下訂EUVTWINSCAN EXE:5200設備,英特爾先下單不代表會先量產。

競爭力 台積電有信心

相較英特爾、三星,台積電在技術製程推進向來採取穩紮穩打策略,總裁魏哲家日前在法說會上重申,3奈米製程延續FinFET架構,進度符合預期,將於今年下半年量產,3奈米量產1年之後,將會量產強化版的3奈米(N3E)。至於2奈米製程將採用環繞閘極(GAA)架構,預計2025年量產,魏哲家不願評論競爭對手,但他強調,台積電2奈米製程技術在密度及效能上將最具競爭力。

英特爾則表示,公司早在2018年即是之前TWINSCAN EXE:5000系統的首位買家,這次新訂購EUVTWINSCAN EXE:5200系統,與ASML合作關係,將隨著英特爾於2025年開始以高數值孔徑EUV進行生產製造而延續下去。

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