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〈財經週報-全球財經趨勢〉荷商壟斷EUV光刻機 日企改搶周邊設備商機

2020/10/19 05:30

東京威力科創預計撥款逾10%銷售額從事研發,鞏固其領先地位。圖為東京威力科創竹科台灣分公司。 (取自Google地圖)

編譯魏國金/特譯

荷蘭艾司摩爾是唯一生產EUV光刻機設備的公司,但周邊設備是許多日本晶片設備製造商搶食的商機。(路透)

極紫外光(EUV)光刻機是新一代晶片生產設備的顯學,對一年超過565億美元(約台幣1.65兆元)的先進製程晶片設備市場產生莫大影響。儘管荷蘭艾司摩爾(ASML)是當今唯一有能力量產EUV光刻機設備的公司,但日本晶片設備製造商間的競爭卻越演越烈,他們爭的是要當EUV周邊設備的全球龍頭。

日本經濟新聞報導,日本企業正強化其在EUV周邊設備,比如檢測與光源等的實力。東京威力科創(或稱東京電子,Tokyo Electron)在明年3月31日為止的2020會計年度,提撥1,350億日圓(約台幣376億元)作為研究經費,該規模堪稱空前。東京威力科創是全球第三大晶片機械製造商,總裁河合利樹(Toshiki Kawai)說,「如果EUV廣泛使用,對高階設備的需求也將水漲船高」。

東京電子 投入逾10%銷售額研發

東京威力科創以「塗佈顯影設備(Coater/Developer)」知名,該設備以特殊化學液體塗佈於矽晶圓,使之顯影。而在應用於EUV設備上的塗佈顯影工具市場,其市占率已達百分之百。儘管如此,該公司仍將自今年合併銷售額(預計達1.28兆日圓)中撥款逾10%在研發上,以在應用日廣的EUV技術上,鞏固其領先地位。

生產檢驗設備的雷泰光電(Lasertec)則大幅受惠於EUV的發展。比如若光罩出現瑕疵,晶片生產的不良率就會增加。而從去年7月到今年3月,該公司拿下658億日圓(約台幣183億元)支援EUV的測試設備訂單,業績較前一年上揚2.2倍。該設備預計將佔雷泰光電全年訂單的三分之二。

報導說日本公司之間的競爭態勢越來越激烈。在以電子束於光罩上描繪電路圖的設備市場上,東芝集團旗下的紐富來(NuFlare Technology)緊緊追趕東京電子顯微鏡製造商JEOL與奧地利艾美斯電子束科技公司(IMS Nanofabrication)的聯盟。他們的競爭聚焦在可釋放26萬束雷射的「多波束」(multibeam)技術之研發。

小松研發新光源零組件 可望重返榮耀

今年一月阻絕日本玻璃光學大廠Hoya對紐富來的惡意併購後,全球最大硬碟玻璃碟片製造商東芝鞏固對紐富來的控制,額外派遣25名工程師與主管進駐該單位,以期在2020會計年度出貨可支援EUV的新一代循跡裝置。

在EUV問世前,小松製作所(Gigaphoton)是光刻機光源的全球1兩大製造商之一,在競爭對手被艾司摩爾收購後,其在業界風光不再。然而,這家總部設在栃木縣小山市的企業有望重返榮耀。在艾司摩爾2022年預計推出新一代EUV設備之前,小松製作所希望研發出新的光源零組件,以奪回失去的市佔率。

半導體廠競爭激烈 造設備商新商機

日經報導,三星電子與台積電等全球半導體製造龍頭在先進製程晶片上趨於激烈的競爭,也促使晶片設備製造商致力開發可支援EUV的設備。鑒於應用在5G技術的高階晶片需求量日增,三星電子與台積電正爭奪每台造價逾200億日圓(約台幣55.7億元)的艾司摩爾光刻機。

該激烈的競爭也為其他晶片產品製造商創造新商機。根據國際半導體產業協會(SEMI)與日本半導體製造裝置協會的資料,過去兩年日本製的半導體生產設備維持在全球市佔率30%,2019年站上31.3%。

尼康(Nikon)與佳能(Canon)曾經壟斷光刻機全球市場,但在敗陣於艾司摩爾後,就對EUV設備的研發裹足不前。在導體體設備產業上,贏者全拿的趨勢越來越強勁,由EUV技術催生的設備世代更迭,勢必將加速半導體設備製造商的優勝劣汰。

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