晴時多雲

國際現場》ASML3奈米光刻機 明年問世

2020/02/19 05:30

光刻機大廠荷蘭艾斯摩爾(ASML)表示,將在2021年推出3奈米極紫外光刻機(EUV)。(路透)

晶圓代工大廠台積電(2330)今年正式量產5奈米製程,競爭對手三星電子也急起直追,兩家公司還積極開發3奈米製程,光刻機大廠荷蘭艾斯摩爾(ASML)表示,為了因應兩大客戶的需求,將在2021年推出3奈米極紫外光刻機(EUV)。

隨著台積電和三星電子在7奈米製程量產,ASML的EUV光刻機需求也快速攀升。ASML表示,去年全年出貨26台EUV光刻機,遠高於2018年的18台,出貨金額達62億歐元,EUV佔ASML的營收比重增至31%。而今年台積電和三星電子又開始量產5奈米製程,預估對EUV光刻機的需求將進一步提升,ASML表示,今年將交付35台EUV光刻機,2021年進一步提高至45至50台。

為了因應更為先進的3奈米、2奈米製程,ASML開始研發新一代EUV光刻機EXE:5000系列,預計最快在2021年問世,但因首發設備還是樣品機,最快要到2022年或2023年才會交付給客戶。

台積電3奈米製程預計最快也要等到2022年才會量產,三星電子的3奈米製程量產時間也大約在2022年,屆時ASML交付的新一代EUV光刻機EXE:5000系列,就能趕上兩家公司的量產需求。

(編譯盧永山)

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