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台積電昔日六研發大將曾攜手開發0.13微米銅製程，領先全球，6人分別為余振華、梁孟松、孫元成、蔣尚義、楊光磊、林本堅，台積電創新館展示照片中，刻意將梁孟松裁去，連最右邊仍在台積電的余振華也被「犧牲」了。（記者洪友芳翻攝）
〔記者洪友芳／新竹報導〕美中貿易戰火不斷升溫，中國廠商積極以「去美化」反制；被視為台積電「叛將」的梁孟松，在台積電創新館所展示1張奠定領先關鍵戰役的研發主將成員照中，原本是成員之一，被台積電刪除，形同「去梁孟松化」。
2000年間，台積電與聯電在晶圓代工競爭呈拉鋸戰，台積電在技術強調自主研發，聯電選擇跟IBM合作，結果拉開雙方差距；台積電於2003年成功開發出0.13微米銅製程，領先全球業界，當時主導技術研發的就是蔣尚義，率領研發主將包括已退休的孫元成、林本堅，還有楊光磊、梁孟松等人。
助三星建立14奈米製程 台積電控告洩密勝訴
梁孟松2009年離開台積電，投效南韓三星，帶領一群人協助三星建立FinFET（鰭式場效電晶體）14奈米製程，一度超越台積電，但也引發台積電對梁提告洩漏營業秘密訴訟，最後台積電勝訴；之後梁離開三星，轉赴中芯國際。
繼協助三星建立FinFET14奈米製程，幫助三星在晶圓代工領域抗衡台積電之後，梁孟松率中芯研發團隊花費1年多時間，宣布14奈米製程技術大突破，研發成功，今年將開始貢獻營收，但業界半信半疑。
台積電有個半導體博物館「台積創新館」，其中，公司發展歷程展示不同年代重大事件，2003年是0.13微米銅製程技術與量產締造新里程碑的關鍵，蔣尚義率領的研發團隊還獲政院頒發「傑出科學與技術人才獎」；巧的是，成員照片中的蔣尚義、梁孟松、楊光磊等陸續加入中芯，原本是成員之一的梁孟松，已在照片去除，形同台積電早已「去梁孟松化」。
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