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小檔案︰ 極紫外光(EUV)微影製程


2019-01-08 06:00

台積電位於南科的5奈米製程新廠工程進度飛快。(記者洪友芳攝)

極紫外光(EUV)微影製程,被半導體產業視為「救世主」,因為目前半導體製程的主流光源是氬氟雷射,波長為193奈米,當電晶體尺度已微縮到幾十奈米時,生產起來力不從心,但極紫外光的波長僅有13.5奈米,能夠讓摩爾定律再延伸至少10年。透過EUV 製程,5G 晶片組可減少佔用空間、增加電池續航力,有助提高產品體積薄小化設計。

(記者洪友芳)

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