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台積電持續擴大3奈米先進製程布局。（美聯社檔案照）
〔財經頻道／綜合報導〕台積電擴大3奈米產能，也帶旺晶圓製程中不可或缺的「清洗商機」。《路透》報導，隨著台積電今年4月宣布在台南GIGAFAB再興建一座3奈米晶圓廠，比利時化工大廠Solvay也看準先進製程對超純過氧化氫需求增加，宣布將在2026年底前，將台灣超純過氧化氫年產能提高至7萬噸以上，增幅超過一倍。
據報導，超純過氧化氫主要用於半導體製造過程中的晶圓清洗。隨著晶片製造技術持續朝更先進製程發展，生產過程對污染控制的要求愈來愈嚴格，即使極低程度的污染，也變得更加重要。
台積電今年4月宣布，將在台南GIGAFAB再興建一座3奈米晶圓廠。Solvay過氧化物事業部總裁Carlos Silveira表示，台灣是先進製程的中心，2座新的先進製程晶圓廠，很快就能消耗掉這些產能。
報導指出，這次擴產將在位於台南的新碩先進化學（Shinsol Advanced Chemicals）進行。新碩是Solvay持股51%的合資企業，目前超純過氧化氫年產能約3.5萬噸，擴產完成後將提高至7萬噸以上。
數據顯示，預計到2031年，過氧化氫市場總複合年增長率 （CAGR） 將達到 3.96%，亞太地區預計將繼續保持最大且成長最快的市場地位，這主要得益於半導體產業對高純度過氧化氫的需求。
Silveira表示，2025年電子級產品約占公司整體過氧化氫業務15%。希望未來5至7年內，將電子級過氧化氫業務的貢獻至少提高至目前3倍。除了台灣，Solvay去年也進行擴充中國產能，目前正在德國投資電子級過氧化氫產能，並準備掌握美國市場商機。
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