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傳中國開始生產自研浸潤式深紫外光曝光機（DUV），全球半導體設備古承壓。（路透資料照）
〔財經頻道／綜合報導〕台、美、日半導體股全面承壓，市場分析認為，賣壓可能與中國傳出已開始生產自研浸潤式深紫外光曝光機（DUV）有關，這種晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商 ASML 主導。
綜合《The Information》等報導，一家位於上海、獲中國政府支持的企業，已開始生產自主研發的 DUV 曝光機，相關團隊納入宇量昇科技等新創公司人員。
消息人士稱，中國DUV主要使用國產零件，但部分關鍵零件仍來自日本，且性能和製造品質仍不如ASML產品。
按照目前規畫，該公司今年將生產5台DUV設備，明年進一步提升至20台。知情人士表示，這些設備預計將於今年交付中國主要晶片製造商，包括中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。
消息曝光後，半導體設備供應鏈股價受到市場關注。觀察相關個股，週一（27日）ASML荷蘭掛牌股票重挫逾8%；ASM國際與貝思半導體（BE Semiconductor）分別大跌7.1%與9.7%；美國設備商科磊（KLA）、科林研發（Lam Research）及應用材料（Applied Materials）也同步走弱。
日本東京威力今（28）日盤中大跌9.39%；韓股方面，SK海力士盤中大跌11.18%、三星電子大跌8.88%；台灣半導體設備概念股也同步承壓，部分個股跌幅明顯，不過有分析認為，中國國產DUV僅應用於成熟製程，無法取代EUV技術，對台灣先進製程設備供應鏈影響有限。
美銀證券分析師 Didier Scemama則認為，中國本土設備目前對ASML構成的威脅仍然有限。即使中國明年成功生產20台國產DUV設備，對ASML銷售額造成的影響約14億歐元，僅占ASML預估整體營收2.4%。
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