台積電發布了一段飛越位於亞利桑那州鳳凰城附近的Fab 21工廠的影片。(截圖取自影片)
〔財經頻道/綜合報導〕台積電發布極其罕見的影片,展示美國晶圓廠內部情況,影片中亞利桑那州Fab 21的飛行影片展示了「銀色高速公路」和晶圓廠製造設備先進曝光機。
台積電發布了一段飛越位於亞利桑那州鳳凰城附近的Fab 21工廠的影片。影片展示數百台高科技設備正在有條不紊地為各家美國公司製造晶片。該廠的鎮店之寶當然是ASML的Twinscan NXE極紫外光微影(曝光機)設備,它可以生產輝達Blackwell B300處理器等晶片中最複雜的電路。
這段影片帶觀眾深入了解台積電位於亞利桑那州鳳凰城附近的Fab 21工廠第一期工程。該工廠正加緊生產採用N4和N5製程技術(4奈米和5奈米級)的晶片。
影片展示了一條通往無塵室的通道,無塵室採用黃色照明,可以濾除較短的波長,防止光阻意外曝光。
片頭展示了所謂的「銀色高速公路」(silver highway),即台積電的自動化物料搬運系統 (AMHS)。該系統由高架軌道組成,用於運輸裝載300毫米晶圓的前開式晶圓傳送盒 (FOUP)。數百個FOUP的運作展現了晶圓廠內部精細的晶圓物流,這對於在大批量生產 (HVM) 環境中保持生產週期至關重要。
影片的核心是ASML的EUV曝光機(可能是Twiscan NXE:3600D),它展示瞭如何在晶圓上「列印」圖案。 EUV 曝光技術使用波長為13.5奈米的二氧化碳光,透過錫滴產生的雷射等離子體 (LPP) 產生,在腔室中可見紫色等離子體點火。然後,LPP照射到晶圓上,在當前製程的單次曝光中,創建分辨率高達約13奈米半間距的複雜圖案。
目前,台積電正在其Fab 21第一期採用其N4和N5製程技術為蘋果、超微和輝達等公司製造晶片,但該公司目前也在建設其Fab 21 第二期,該期將能夠生產採用N3和N2系列製程技術的晶片。
影片展示所謂的「銀色高速公路」核心,以及ASML的EUV曝光機。(示意圖,取自影片)
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