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台積電A14製程是否使用艾斯摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High NA EUV ）生產，台積電表示仍在評估。（法新社）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕路透報導，台積電邁向1.4奈米（A14）製程，是否會使用艾斯摩爾（ASML）價值高昂的高數值孔徑極紫外光曝光機（High NA EUV ）生產，台積電業務開發資深副總裁張曉強週二（27日）表示，公司仍在評估當中，目前尚未找到採用High NA令人信服的理由。
High NA EUV價值近4億美元（約台幣132億元），幾乎是晶圓廠當前最昂貴設備的兩倍，也是晶片製造廠中最昂貴的設備。當被問及台積電是否計劃將該機器用於即將推出的A14，以及未來製程的增強版本時，張曉強表示，尚未找到「非用不可」的理由。
他在新聞發布會上表示，A14的增強技術，在不使用高數值孔徑 （High-NA） 的情況下，效果非常顯著。因此，公司的技術團隊正繼續尋找一種方法，通過利用微縮（scaling）優勢來延長現有低數值孔徑EUV機器的使用壽命。公司目前尚未找到「非用不可」的理由導入高NA機台。
他指出，A14製程即便不使用高NA，仍能實現非常顯著的技術提升。他也坦言：「只要我們繼續找到替代方案，就沒有必要用這台昂貴的設備。」
去年，張曉強曾告訴記者，台積電不會在其A16製程上使用High-NA，並補充說，他喜歡High-NA EUV這項技術，但不喜歡這個價格。
此外，英特爾計劃在未來的製造流程（14A）中使用High-NA EUV機器，試圖重振代工晶片業務，並更好地與台積電競爭。不過，英特爾也表示，客戶仍然可以選擇使用更老、更成熟的技術。
在ASML的最新收益報告中，執行長Christophe Fouquet表示，他預計客戶將在2026年至2027年期間測試High-NA的大量生產準備情況，然後在後期在最先進的製程上評估使用該工具。
到目前為止，ASML已向全球3家客戶包括英特爾、台積電和三星運送5台重達180噸的High-NA EUV雙層機器。
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