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市場傳出，來自深圳新凱來將突破美國的技術封鎖，其本土晶片製造設備可望助中國突破5奈米技術瓶頸。（示意圖，路透）
〔財經頻道／綜合報導〕在美國持續加強對中國高階晶片技術出口限制之際，市場傳出，中國晶片設備商深圳新凱來產業機械（SiCarrier Industry Machines）成功突圍美國技術封鎖，預期開發出的半導體新設備，將可成功助攻中國突破5奈米晶片技術瓶頸。
不過，中媒卻唱衰，直指專利在手不等於技術成熟，畢竟從專利到量產，中間還有十萬八千里。
據報導，來自深圳、具有國企背景的新凱來，一直以來低調神祕，卻在這次Semicon China會場上喊出7奈米起步，5奈米製28奈米都能搞定的光刻技術，並用31套「以山之名」的半導體晶片製造設備，在中國半導體圈迅速竄紅。
新凱來董事長戴軍在Semicon China會場上表示，目前中國無法取得製造先進晶片所需的曝光機系統，特別是EUV曝光設備，但透過自家開發的非光學技術與製程機台，仍有機會以多重圖案化（Multi-patterning）方式，克服部分曝光難題。
新凱來於2023年底取得中國知識產權主管機關核發的多重圖案化專利，該技術利用DUV設備，配合「自對準四重圖案化」（Self-aligned Quadruple Patterning, SAQP）工藝，實現接近5奈米技術指標，無需依賴昂貴的EUV設備，同時降低生產成本。
分析師指出，新凱來的晶片製造設備能在某些情況下取代光學設備，有可能為中國提供一條實現5奈米製程的替代路徑。業內人士指出，面對來自美國的技術限制與封鎖，中國半導體產業正積極尋求「國產替代」路線，新凱來的出現與技術突破，或成為中國邁向先進製程領域的重要一環。
但戴軍也坦言，多重圖案化技術雖能取代EUV設備，但會增加製程複雜度，從7奈米升級至5奈米時，相關製造步驟恐增加約20%，對良率造成挑戰。
根據公司內部人士透露，新凱來的設備已被中國主要晶圓代工廠中芯國際（SMIC）採用，並與電信巨頭華為有合作關係。
中媒指出，這個四重圖形技術，簡單來說就是把晶片上的圖形反覆刻蝕幾次，提高電晶體的密度和性能。如果真能用這技術突破5奈米光刻，那確實算是「獨闢蹊徑」。
中媒直言，此次在《SEMICON China 2025》會場中沒有看到從新凱來展示任何實際設備，僅有相關技術說明以及號稱是新開發產品模型，這就好比說自己會做滿漢全席，卻連食譜都不給看一眼，誰信吶？而且，專利在手，不等於技術就成熟了，畢竟從專利到量產，中間還有十萬八千里。
公開資料顯示，新凱來產業機械成立於2022年，其母公司新凱來科技創立於2021年，為深圳市政府的投資基金全資持有。2024年12月，新凱來成為美國商務部新增至貿易黑名單的140家中國晶片設備商之一。
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