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世禾先進製程設備清洗不完，明年營運續成長（彭博示意圖）
〔記者洪友芳／新竹報導〕半導體潔淨大廠世禾（3551）昨舉行法說會，該公司已通過台積電2奈米先進製程的清洗認證，公司指出，相較5奈米，2奈米的設備清洗需求約高出1.2至1.3倍，未來挹注營運可期，預估明年營運可望續比今年成長。
世禾目前是台灣主要半導體設備清洗與再生服務供應商，在半導體領域的營收占比已近8成，受惠主要客戶在先進製程領先，營運比重過半，帶動世禾營運成長。
世禾繼取得3、5、7奈米先進製程主要設備清洗潔淨商機之後，也已通過台積電2奈米先進製程的清洗認證。公司預估，2奈米相較5奈米製程，設備清洗需求約高出1.2至1.3倍，先進製程貢獻營運樂觀。
世禾因應客戶擴產需求，2年前也展開擴產，新廠已在今年下半年起投入營運，預計明年第2季達滿載，估滿載產能約較今年上半年增加25％，公司已在規劃建置新廠，預期明年營運將續比今年成長。
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