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沖繩科學技術學院（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一種全新的、大幅簡化的EUV曝光機，比ASML開發和製造的工具更便宜。（示意圖，取自網路）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕製造先進晶片需採用荷蘭ASML製造商生產的價格高昂極紫外光曝光機（EUV），而現在日本科學家開發出簡化的EUV掃描儀，據稱可以大幅降低晶片的生產成本。
沖繩科學技術學院（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一種全新的、大幅簡化的EUV曝光機，比ASML開發和製造的工具更便宜。如果該設備實現量產，可能重塑晶片製造設備產業的現況。
新系統在光學投影設定中僅使用兩面鏡子，這與傳統的六鏡配置有很大不同。這種光學系統的挑戰在於，它需要將這些反射鏡沿直線對齊，從而確保系統保持較高的光學性能，而不會出現與EUV光相關的常見失真。
新的光路允許超過10%的初始EUV能量到達晶圓，而標準設定中的能量約為1%，這項改進是一項重大突破。這種簡約設計的主要優點之一是它提高可靠性，並降低了維護複雜性。這種EUV微影工具設計的另一個優點是功耗大幅降低。
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