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艾司摩爾證實，今年底前將向台積電交付最新的High-NA EUV曝光機。（路透資料照）
高佳菁／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕全球最大晶片微影設備商艾司摩爾（ASML）發言人表示，公司的2個最大客戶台積電和英特爾將在今年底前獲得最新的高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機。
《彭博》報導，台積電和英特爾皆已下單這款最新的High-NA EUV曝光機，英特爾預計12月底將把首台機器運送到奧勒岡州的工廠；目前仍不清楚台積電何時會收到新設備，台積電的代表表示，公司與供應商密切合作，拒絕進一步置評。
艾司摩爾的新機，可以用僅8奈米厚的線來印壓半導體，相較於前1代設備還要小1.7倍，將用於生產為AI（人工智慧）相關應用，以及其他先進消費電子產品提供動力的晶片。
這台新機要價高達3.5億歐元（3.8億美元，約新台幣1241.2億元），重量相當於2架空中巴士A320客機。台積電業務開發資深副總裁張曉強 （Kevin Zhang）先前在阿姆斯特丹出席活動時也坦言，新的High-NA EUV性能佳，但價格過高。
張曉強提到，台積電的A16先進製程節點預計將在2026年底推出，仍可以繼續依賴現有的EUV設備，還用不到最新的High-NA EUV。儘管如此，台積電仍是艾司摩爾High-NA EUV計劃的積極參與者，傑富瑞（Jefferies）分析師梅農（Janardan Menon）預估，台積電將於2028年在A14製程節點用上這款High-NA EUV。
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