外媒稱,ASML 截至明年上半年絕大部分新型High-NA EUV曝光機訂單,全數由英特爾買下。(路透)
陳麗珠/核稿編輯
〔財經頻道/綜合報導〕韓媒披露,荷蘭半導體設備巨擘ASML 截至明年上半年絕大部分新型High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)曝光機訂單,全數由英特爾買下,包括今年計畫生產的5台設備,估計一台要價5000億韓元(約台幣120億),光是今年英特爾就耗資台幣600億。
韓媒《TheElec》引述消息人士報導,ASML今年準備製造5台High-NA EUV曝光機,這種設備每年只生產約5至6台,表明第一批貨將全數由英特爾包下,估價每台要價5000億韓元。
英特爾宣布重新進入代工業務後,就搶先購買這套設備。英特爾希望利用此設備打造18A晶片製程,提前部署2奈米製造,使其有機會領先競爭對手台積電和三星。
消息人士預計,三星和SK海力士將在明年下半某個時候才能獲得該設備。
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