晴時多雲

佳能半導體製造設備吸睛 超乎公司預期

2024/01/30 20:36

日本佳能表示,客戶對新型奈米壓印曝光機的興趣超出了公司的預期。(路透)

吳孟峰/核稿編輯

〔財經頻道/綜合報導〕日本佳能週二(30日)表示,客戶對新型奈米壓印曝光機的興趣超出了公司的預期,佳能正大力推動縮小與荷蘭晶片製造設備商ASML的差距。

佳能去年10月推出新型奈米壓印曝光機,可將電路圖案直接壓印到晶圓上。公司強調這些工具的低成本和低功耗,使其前景成為業界爭論的議題。

ASML憑藉其極紫外線 (EUV) 曝光機已成為歐洲最有價值的科技公司,該機使用光束來創建電路,並被台積電和英特爾用來製造尖端晶片。

佳能財務和會計總部負責人Minoru Asada表示,雖然現在說佳能新機器何時會對銷售做出貢獻還為時過早,但客戶反應比公司預期的要大。佳能的目標是先推出用於生產記憶體晶片的機器,然後再擴展到其他領域。

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