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艾司摩爾的曝光機（見圖）面臨佳能壓印技術的挑戰。（路透資料照）
〔編譯魏國金／台北報導〕瑞典媒體Gamingdeputy 27日報導，日本半導體設備巨頭佳能（Canon）十月推出的奈米壓印裝置（NIL）FPA-1200NZ2C不僅可生產2奈米製程晶片，其耗電量與價格皆為對手艾司摩爾（ASML）深紫外光機（EUV）的十分之一，為小型半導體製造商開啟生產先進晶片的新途徑。
佳能半導體機器事業部長岩本和德（Kazunori Iwamoto）指出，奈米壓印是將光罩上的半導體電路圖壓印在晶圓上，只要一次壓印，就能在適當位置形成複雜的2D或3D電路圖，因此只要持續改進光罩，甚至能生產2奈米晶片。
報導說，佳能的奈米壓印技術可生產至少5奈米製程晶片。先進半導體設備市場目前由艾司摩爾主導，佳能的技術將持續縮小與艾司摩爾的差距。
對於設備成本，岩本和德估計，單次壓印的成本可低至傳統曝光設備的一半。佳能執行長御手洗富士夫（Mitarai Fujio）則表示，奈米壓印的產品價格比艾司摩爾的EUV 將減少一位數，亦即前者為後者十分之一。
報導說，有別於以光學圖像投影原理來運作EUV，佳能開發的奈米壓印技術是將電路圖直接印在晶圓上，製造出的晶片據稱擁有可媲美最先進節點的幾何圖形，不過壓印速度較EUV慢。
該新設備預計可讓晶片製造商降低對晶片代工廠的依賴，同時讓台積電、三星電子等晶片代工廠更可能大量生產晶片。佳能表示，該設備需要的功率僅為EUV的十分之一。
佳能之前聚焦於生產普通晶片，2014年起開始大力投資壓印技術，並收購專門開發奈米壓印技術的Molecular Imprints公司。岩本和德說，佳能已收到大量半導體製造商、大學、研究機構的詢問，他們估計該技術可作為EUV的替代裝置，並可為個人電腦與邏輯IC生產快閃記憶體、DRAM等各種半導體。
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