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上海微電子（SMEE）表示，正開發一款可用於製造28奈米的曝光機。（路透）
〔記者吳孟峰／綜合報導〕中國晶片製造設備商上海微電子（SMEE）在美國黑名單制裁下，似乎突破技術現況，表示正開發一款可用於製造28奈米的曝光機。
上海微電子資金背後有國家政府支持，週二在微信發文稱，公司開發了一款名為SMEE的曝光機，可用於製造28奈米晶片，上海微電子股價飆升了8%。不過，隨後這家國有挺腰的公司修改了發文內容，刪除提到28奈米的內文。相反地，發文現在僅簡單地寫著SMEE致力於製造先進的曝光機。
上海微電子被專家認為是中國與荷蘭晶片設備商ASML競爭的最佳希望，ASML在製造先進半導體所需的尖端極紫外光曝光機（EUV）和深紫外光曝光機（DUV）擁有壟斷地位。去年年底，在美國加大阻止北京建設世界級晶片產業後，美國商務部將上海微電子列入黑名單。ASML明年開始也無法向中國提供DUV機器。
雖然28奈米晶片於2011年首次上市，但上海微電子的最新成果意味著中國可能已將該領域的技術，與全球其他領先生產商的差距縮小幾年。中國自己的曝光機技術落後荷蘭公司至少約20年以上。不過，28奈米晶片對於智慧型手機和電動車等眾多產品仍然很重要。
與此同時，美國和歐洲官員也越來越擔心中國加速推動老一代半導體的生產，並正討論如何遏制中國擴張的新戰略。
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