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英特爾週五（29日）表示，已開始在位於愛爾蘭價值185億美元的工廠使用極紫外光微影（EUV）進行大批量生產。（美聯社）
〔財經頻道／綜合報導〕英特爾週五（29日）表示，已開始在位於愛爾蘭價值185億美元的工廠使用極紫外光微影（EUV）進行大批量生產，並稱這是英特爾尋求重新奪回競爭對手地位的「里程碑」時刻。這也將標誌著EUV首次用於歐洲批量生產。
曾經是全球領先晶片製造商的英特爾已經失去領先地位，但表示它有望憑藉其製造技術重新奪回領先地位，並稱將與台積電的最佳製造技術相媲美。英特爾技術開發總經理安·凱萊赫（Ann Kelleher）在一份聲明中表示：這對於英特爾和整個半導體行業來說都是一個里程碑。
英特爾在愛爾蘭萊克斯利普的Fab 34 工廠開幕活動上開始使用「Intel 4」製程大規模生產晶片。這將是極紫外微影首次在歐洲用於晶片的商業生產，也是英特爾在4年內推進5個製程節點的努力的一部分。這更是英特爾執行長季辛格承諾在晶片技術上追趕領先者台積電和三星的一部分。
該工廠的開幕將允許生產英特爾即將推出的英特爾酷睿Ultra處理器（代號為Meteor Lake）等產品，該處理器將為人工智慧PC鋪平道路。
雖然英特爾正提升其名義上的4奈米製程技術，但現在台積電和三星已經採用了3奈米製程。英特爾聲稱其「Intel 3」將於2023年下半年「投入生產」。英特爾的路線圖指出，目標是在2025年左右在2nm節點實現「製程領先」。
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