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美國積極建立自主化半導體供應鏈，美商應材推出新機台，挑戰荷商ASML。（圖為美國國務卿布林肯參訪應材工廠，路透社）
〔財經頻道／綜合報導〕美國半導體設備大廠應材（Applied Materials）在3月1日正式提供英特爾新的晶片製造設備，不僅可以更低成本生產能處理AI任務的晶片，也期盼產業降低對荷蘭ASML的依賴。
ASML是全球唯一EUV曝光設備供應商，其特點是需要進行雙重構圖，即對基板進行雙重蝕刻，這需要增加水和電的使用量以及更長的過程。
美商應材新推出的VeritySEM 10 系統具有獨特的架構，讓客戶減少必須花在微影製程的時間。由於微影技術愈來愈複雜且昂貴，新的做法將協助簡化晶片的製造並減少浪費。
由於應材新機台已獲得英特爾採用，南韓業內人士認為，ASML的壟斷即將結束，美國在半導體相關行業的存在感也將隨之增加。
另1位南韓業內人士也說，美國積極將半導體行業本土化，包括材料、零件、設備以及設計和製造，以提高其在半導體行業的影響力。
彭博亦稱，應材此舉可能打亂目前由ASML機台稱霸的微影市場，即使應材並非直接挑戰ASML，卻嘗試顛覆產業製造晶片的方式。
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