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國科會今日核准鴻鎵科技中科分公司投資案，投資額總計新台幣2億元。圖為中科管理局。（記者林旻臻翻攝）
〔記者林旻臻／台中報導〕國家科學及技術委員會今日召開科學園區審議會第1次會議，會中通過積體電路鴻鎵科技股份有限公司中科分公司投資案，投資額總計新台幣2億元。
鴻鎵科技股份有限公司中科分公司設立於中部科學園區的台中園區。國科會指出，本案投資金額約為新台幣2億元，研製第3代半導體─氮化鎵功率磊晶片及氮化鎵功率電晶體等產品，鴻鎵科技除自有技術外，並獲日本NTT-AT技轉磊晶技術，從晶片到終端產品，設計、生產、銷售結合多家廠商一貫作業，產品應用於太陽能儲能、新能源車、工業自動化及5G高頻通信等產業，有利於促進中台灣形成高科技產業聚落。
研調機構集邦科技（TrendForce）研究預估，氮化鎵功率元件主要應用為消費性產品，至2025年市場規模將達8.5億美元，2020至2025年複合成長率高達78%，具有相當市場潛力。
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