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IC設計神盾與力旺發表全球首見類比AI晶片。圖為神盾董事長羅森洲（資料照）
〔記者卓怡君／台北報導〕IC設計神盾（6462）與力旺（3529）發表全球首見類比AI晶片，該案由經濟部技術處推動「AI on Chip 計畫」補助神盾與力旺執行，類比AI晶片應用於屏下大面積光學指紋辨識系統，有效解決當前指紋解鎖技術的瓶頸、提升安全保障。
智慧手機吹起全螢幕風潮，指紋辨識功能從手機正面螢幕下方（under-display）或手機背面，移往屏下（in-display），並催生光學 指紋辨識成為下一代智慧手機的新標準功能。當前智慧型手機指紋辨識功能所遇到之挑戰，主要是礙於空間不足，往往只使用小型指紋辨識感測器以一小部份指紋進行辨識，這使得單一手指的部份指紋可能被誤認或剛好符合其他手指的部份指紋，形成安全疑慮。
為推動半導體產業發展，政府於2019年啟動「AI on Chip」專案計畫，神盾與力旺透過經濟部技術處的支持與協調，與產官學研合作，開創領先全球的新技術，同時整合上中下游、兼具產業廣度與深度，打造健全產業生態系。此計畫為全球開創性的類比AI運算晶片技術，帶來重大突破，未來將持續優化，面對全球半導體產業的激烈競爭，更能夠維持優勢且拉開差距。
神盾與力旺強強聯手，將指紋辨識軟體技術和非揮發性記憶體（Non-volatile memory, NVM）硬體技術完美結合，成功展現類比AI晶片的優勢（耗能低，容易與成熟製程的感測器整合）。類比運算技術提高以玻璃基板製作的大面積指紋辨識準確度，類比非揮發性記憶體則省去為了使用數位記憶體所需要的ADC、DAC、SRAM、NVM， 有助於各自的市場拓展。神盾也正與國際大廠評估合作，擴大台灣科技能力於全球的重要性。
神盾技術長林功藝指出，除持續供貨給 世界一流的手機品牌外，神盾也致力於車用及生活所需裝置的多項應用研發，在政府對於產業支持下，希望持續對國內半導體產業鏈帶來更多建樹。
力旺技術長暨第二事業群總經理林慶源表示，力旺的超低功率類比NVM是實現AI邊緣運算的理想決方案，與神盾合作讓該核心技術在AI指紋辨識應用中具體實現，期待未來技術進入市場後能惠及更多AI終端裝置。
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