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領先全球業界，台積電宣布7奈米強效版製程，協助客戶產品大量銷售市場。（記者洪友芳攝）
〔記者洪友芳／新竹報導〕台積電宣布，領先業界導入極紫外光（EUV）微影技術的 7 奈米強效版（N7+）製程，已協助客戶產品大量進入市場，導入EUV微影技術的N7+主要奠基在台積電成功的7 奈米製程之上，也為 6奈米與更先進製程奠定良好基礎。
台積電表示，N7 +的量產速度為史上量產速度最快的製程之一，今年第二季開始量產，在7奈米製程技術（N7）量產超過一年後，N7+良率與N7 已相當接近。
N7 +同時提供整體效能的提升，N7 +的邏輯密度比 N7 提高15%至到20%，並同時降低功耗，使其成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。
台積電也快速布建產能以滿足多個客戶對N7 +的需求。
EUV微影技術使台積公司能夠持續推動晶片微縮，因EUV 的較短波長能夠更完美地解析先進製程的設計。台積電的 EUV 設備已達成熟生產的實力，EUV設備機台也達大量生產的目標，在日常運作的輸出功率都大於250 瓦。
台積電業務開發副總經理張曉強表示，AI 與5G 的應用為晶片設計開啟了更多的可能，使其得以許多新的方式改善人類生活，台積電的客戶充滿了創新及領先的設計理念，需要台積電的技術和製造能力使其實現，台積電在EUV微影技術上的成功，是公司不僅能夠具體落實客戶的領先設計，同時憑藉卓越的製造能力，也能使其大量生產的另一個絕佳證明。
N7+的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積電表示，6 奈米製程技術（N6）將於2020年第一季進入試產，並於年底前進入量產。隨著 EUV 微影技術的進一步應用，N6 的邏輯密度將比N7提高18%，N6 憑藉著與N7完全相容的設計法則，也可大幅縮短客戶產品上市的時間。
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