台灣艾司摩爾主管指出，該公司都稱微影設備，光刻機則是中國的叫法，台灣半導體業都稱為曝光機。（路透；本報資料照）
〔記者洪友芳／新竹報導〕半導體設備商艾司摩爾（ASML）所銷售微影（Lithography）設備居全球市占率最高，生產先進製程最關鍵微影設備極紫外光（EUV）更是全球獨家供應，台灣艾司摩爾主管今指出，該公司都稱微影設備，光刻機則是中國的叫法，台灣半導體業都稱為曝光機。
台灣艾司摩爾主管表示，Lithography此字來自古希臘語 λίθος，lithos 為石頭意思，γράφειν，graphein '書寫'）為一種平版印刷法，代表刻在石版上，中國直接翻譯為光刻機，「光刻機是中國說的，台灣半導體業界不會這樣說，稱曝光機或有的講Stepper」。