晴時多雲

《國際現場》半導體製程 10年來首見換代潮

2020/03/11 05:30

半導體製程出現10年來首見的換代潮。(路透)

根據日經新聞報導,台積電、英特爾和三星電子今年均提高半導體設備投資規模,因隨著採用EUV(極紫外光)的光刻設備問世,半導體製程出現10年來首見的換代潮,並將加速相關企業的優勝劣汰。不過,武漢肺炎疫情可能衝擊半導體業者的投資意願。

台積電今年的設備投資金額提高至160億美元,較2018年增逾5成,創下史上新高;英特爾計畫今年投入約170億美元;三星電子今年的投資金額預料高於去年的26.9兆韓元(225億美元)。

報導說,3家半導體大廠增加設備投資,主要有2大原因。首先是半導體產業復甦。根據世界半導體貿易統計機構(WSTS)的數據,去年全球半導體銷售金額下跌13%至4089億美元,今年將成長6%,因5G開始商用化,將促進半導體的廣泛使用。

其次是半導體製程的換代。把電路轉印到半導體上的光刻設備,出現10年來首見的換代潮,而成為關鍵的就是推出EUV光刻設備的荷商艾斯摩爾(ASML)。

半導體的電路線寬越細微化,性能會越高,耗電量也將降低。目前最先進的半導體製程是7奈米,但要形成如此細微的電路,需要採用EUV光刻設備,這類設備要價逾100億日圓(9390萬美元),台積電和三星電子正展開投資競爭。(編譯盧永山)

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