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根據美國正推動的新法案，艾司摩爾（ASML）所有的EUV與DUV對中出口將受限制。（路透）
〔編譯魏國金／台北報導〕美國跨黨派國會議員正推動一項旨在進一步限制向中國出口晶片製造工具，以遏阻其科技野心的新法案，當中最受關注的是管制所有艾司摩爾（ASML）深紫外光機（DUV）的出口，以及更嚴格限制對特定中企，包括記憶體巨頭長鑫科技的銷售，形同阻止其購買美國與盟友製造的所有半導體生產設備。
彭博報導，美國眾議院2日提出《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act）草案，將強化荷商艾司摩爾、日商東京威力科創等公司半導體製造設備的現有銷售限制。知情人士說，參院版將於本月下旬推出。
該法案旨在讓這些公司受到與美國同業同等，甚至更嚴格的限制，其中包括禁止其工程師對中國特定半導體廠進行設備的維修，美國工程師已被禁止從事此類服務。
該法案也制定適用外企與美國公司，比如應用材料、科林與科磊的新管制。這些美企以及艾司摩爾與東京威力科創的生產設備，對製造從輝達的人工智慧（AI）晶片到各類電子產品元件都至關重要。
多年來，美國與日本、荷蘭合作，阻止中國取得最先進的晶片生產設備，這成為中國AI晶片生產的關鍵掐喉點。
然而，華府鷹派人士認為相關法規仍存在漏洞。該新法眾院版主要提案人鮑加納（Michael Baumgartner）聲明說，此法案旨在「確保美國與盟友步調一致的堵住這些漏洞，以捍衛我們的技術優勢，與保護驅動我們從武器系統到關鍵基礎設施的供應鏈」。
該法案最重要的一點是限制艾司摩爾所有深紫外光機（DUV）出口中國，現有的管制僅適用於最先進的極紫外光機（EUV）以及一些DUV設備。
海牙目前要求艾司摩爾在向中國特定買家出口較先進的DUV設備時須申請許可，而非所有機型的DUV與所有潛在中國買家。新法案將大幅限制這家荷蘭公司進入其最大的市場。
再者，將對特定中國企業，包括記憶體巨頭長鑫科技實施更嚴格的銷售管制，實質上阻止其購買所有美國與盟友的生產設備。
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