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ASML高層透露，該公司的下一代晶片製造設備已準備就緒，晶片廠可以開始投入量產使用。（美聯社資料照）
〔財經頻道／綜合報導〕晶片製造設備大廠艾司摩爾（ASML）的一名高層透露，該公司的下一代晶片製造設備已準備就緒，晶片廠可以開始將新的設備投入量產中使用，這對於晶片產業來說是向前邁進了一大步。
《路透》報導，ASML是全球唯一生產商用EUV（極紫外光）製程技術設備的公司，這是晶片製造商在先進製程的關鍵設備。ASML的數據顯示，新的設備將幫助台積電（2330）和英特爾（Intel）等晶片製造商生產出更強大、更有效率的晶片，因為他可以省去晶片製造過程中幾個成本高昂且複雜的步驟。
ASML技術長彼得斯（Marco Pieters）表示，ASML計劃在週四（26日）於聖荷西舉行的科技會議上公佈這些數據，這代表著一個重要的里程碑。ASML花費數年的時間，研發出昂貴的下一代工具，而晶片製造商一直在努力確定何時開始將新設備用於量產中才具有經濟意義。新設備的造價約4億美元（約新台幣125.18億元），是原EUV造價的2倍。
由於目前這一代EUV設備在製造複雜的AI晶片方面已經接近技術極限，下一代的High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）對於AI產業來說相當重要，可以改善OpenAI的ChatGPT 等聊天機器人，並協助晶片製造商準時交付其AI晶片路線圖，以滿足激增的需求。
彼得斯提到，ASML的數據顯示，High-NA EUV目前已經非常有限，至今已生產約5萬片餐盤大小的矽晶圓，並能夠準確繪製出構成晶片電路的圖案。綜合這3項數據，顯示這些設備已經準備好投入製造商使用。
儘管這些技術已經成熟，但企業預計仍需要2到3年的時間，進行足夠的測試和研發，才能將設備整合到生產中。彼得斯表示，自己認為現在是時候關注已經完成的學習週期數量，這裡指的是客戶對機器進行的測試次數。
彼得斯也提到，目前機台的上線時間約為80％，計劃在年底前達到90％。彼得斯指出，ASML計劃公佈的數據預計將足以說服客戶用High-NA EUV取代老一代設備的多重步驟加工。
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